一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法技术

艺术设计中的反向思考方法 #生活技巧# #创意技巧# #艺术设计思路#

本发明专利技术公开了一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法，包括有

【技术实现步骤摘要】
一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法
[
][0001]本专利技术涉及一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法
。
[
技术介绍
][0002]薄膜技术在日常生活中应用必不可少，是薄膜制备
、
测试等相关的各种技术的总称
。
目前在工业上有多种薄膜制备方法，测量光学参数的方式也多种多样
。
目前传统薄膜镀制以及研发中，通常使用物理气相沉积法，存在难以实现薄膜镀制与设计值完全一致的问题，而测量光学参数时均以待测样品的测量中心点位为准，导致薄膜镀制及研发与设计不符，存在测量不够精准的问题，难以对镀制薄膜进行优化
。
[
技术实现思路
][0003]本专利技术克服了现有技术的不足，提供了一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法
。
[0004]为实现上述目的，本专利技术采用了下列技术方案：
[0005]一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法，其特征在于：包括有
[0006]S1、
清洁待测薄膜样品；
[0007]S2、
将待测薄膜样品进行区域网格划分，根据样品尺寸进行网格划分，设存在
d
维数据集
X
＝
{x1,x2,x3,.....,x
n
}
，设第
i
维上的值在
[l
i
,h
i
]中，
i
＝1，2，
....
，
d,d
维数据空间为：
S

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法，其特征在于：包括有
S1、
清洁待测薄膜样品；
S2、
将待测薄膜样品进行区域网格划分，设存在
d
维数据集
X
＝
{x1,x2,x3,.....,x
n
}
，设第
i
维上的值在
[l
i
,h
i
]
中，
i
＝1，2，
....
，
d,d
维数据空间为：
S
＝
[[l1,h1]
×
[l2,h2]
×
.....
×
[l
d
,h
d
])]
，将数据空间的各个维度划分为均等且不相交的网格单元，网格变成的计算公式为：其中，
α
为控制参量，
T
为网格划分边长值，并选取中部区域网格
、
中部区域网格邻近的上侧区域网格
、
中部区域网格邻近的下侧网格
、
中部区域网格邻近的左侧网格
、
中部区域网格邻近的右侧网格为测量区域，通过
SE
‑
VM
‑
L
型宽光谱全穆勒矩阵椭偏仪分别对各测量区域进行十字点位测量，并计算得到各测量区域的偏振角参数和
ρ
光与
s
光的反射相位差参数；通过光谱仪分别对各测量区域进行十字点位测量，得到各测量区域有的各透过率
、
反射率；
S3、
对各测量区域的偏振角参数和
ρ
光与
s
光的反射相位差参数进行建模及拟合，得到各测量区域的膜层厚度
、
消光系数；
S4、
对各测量区域的膜层厚度
、
消光系数进行对比，计算得到膜层厚度平均数
、
消光系数；
S5、
根据计算得到的膜层厚度平均数
、
消光系数进行膜系设计，控制设计与实际镀制差距进行反向优化
。2.
根据权利要求1所述的一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法，其特征在于：
S1
中通过灰尘扫除和酒精擦拭对待测薄膜样品进行清洁
。3.
根据权利要求1所述的一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法，其特征在于：
S1
中还包括
S11、
对待测薄膜样品进行膜层结构分析，膜层结构包括单层膜
、
双层膜
、
三层膜
。4.
根据权利要求1所述的一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法，其特征在于：
S1
中还包括
S12、
对待测薄膜样品进行样...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏以婧，项剑，郑新，王丽荣，石澎，吴文森，梁怡婷，潘旭辉，
申请(专利权)人：中山火炬职业技术学院，
类型：发明
国别省市：

网址：一种基于椭偏法的薄膜参数反向优化方法技术 https://www.yuejiaxmz.com/news/view/863025

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